煙氣中NH3分析系統

產品型號：ENDA-C2000
更新時間：2024-03-18
產品介紹：煙氣中NH3分析系統
它可以對氨干式脫硝裝置排放出來的尾氣中的殘留NH3濃度進行連續檢測。采用了無漂移化學發光法分析儀（CLA），檢測器實現了高度化。并且，由于使用了半導體傳感器，所以工作奉命長。可監測脫硝催化劑的劣下、限制NH3的注入量、防止硫酸銨結晶物的生成等，在設備的監測、控制方面可以發揮出威力。
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產品介紹

煙氣中NH3分析系統

產品性能

搭載有無漂移化學發光法分析儀（CLA）。

實現了NH3、NOx小量程0?10ppm。

采用了利用氧氣常磁性的劃時代磁壓方式的氧氣分析儀。實現了優異的耐久性、高精度、高速響應。

具有從低濃度到高濃度的大范圍量程。

采用了大幅提高了操作性的前面操作方式。

具有可通過微機對檢測狀態進行監測、控制、運算處理、存儲等功能，容易使用，更加方便進行維護。

良好的自我診斷功能

還可以滿足設置條件多樣化的需求。

檢測成分和量程	NH3: （標準量程）20?100ppm （可選項量程）10ppm?20ppm以下（量程比）10倍以內 NOx: （標準量程）20?100ppm （可選項量程）10ppm?20ppm以下（量程比）10倍以內 O2: （標準量程）5?25vol% （量程比）5倍以內（量程數各成分3量程）
再現性	±0.5FS％、如果包括可選項量程時，±1.0FS％（周圍溫度、-５?40℃的情形）
響應速度	裝置入口:T90、90秒以下校正氣體入口:T90、70秒以下